中国光刻机再获突破 我国的水平已到哪里了

光刻机这种机器是制造芯片的最主要工具，要是没有光刻机的话，那么芯片就制造不出来，我们都知道目前荷兰的光刻机技术是世界顶尖的，而据消息了解中国光刻机再获突破，那么中国的光刻机真实水平已到哪里了呢？我们不妨来了解一下。

无论是中兴还是华为事件的发生，都向我国科技企业透露着一个重要的讯息，那就是掌握核心技术的重要性，尤其是芯片技术。过去五年由于深受存储芯片短缺之苦，中国掀起了一股存储芯片发展热潮。然而，经过我国科技人员的不懈努力，终于传来了中国光刻机再获突破的好消息。

据外媒报道，中国的光刻机技术制程已经进入了9nm，这意味着中国在光刻机方面取得十分重要的进展，虽然还与外国5nm或3nm的制程有很大差距，但是中国的光刻机真实水平已经走在世界前列了，而我们相信随着科研人员的努力，中国光刻机技术还将取得重大突破。